NFC 國立交通大學奈米中心儀器設備

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    儀  器  設  備

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濕式工作台

1

濕式工作台(Wet Bench)

爐管系統(Furnace Systems)

1

氧化擴散系統 (前B台設備)(Oxidation & Diffusion Furnaces )

沉積系統(Chemical Vapor Deposition Systems)

1

低壓化學氣相沉積系統 (Low Pressure Chemical Vapor Deposition, LPCVD)

2

電漿輔助化學氣相沉積系統(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD)

3

原子層化學氣相沉積系統(Atomic Layer Chemical Vapor Deposition System, ALD)

 

微影系統(Lithography Systems)

 

光罩製作

1

雷射光罩製作系統

(雷射圖形產生系統)

(1).雷射光罩製作系統 Ι (雷射圖形產生系統 Ι) (Laser Pattern Generator)
(2).雷射光罩製作系統Ⅱ(雷射圖形產生系統Ⅱ)  (Laser Pattern Generator, DWL-200)

 

曝光機 (屬貴儀機台之曝光機,請至貴儀系統中之"光罩對準曝光機Aligner"預約)

1

光罩對準曝光機 (Mask Aligner)

2

雙面光罩對準曝光機 (Double Side Mask Aligner)

3

I-line光學步進曝光機(I-line Stepper)

蝕刻系統(Dry Etch Systems)

1

複晶矽活性離子蝕刻系統(Poly-Si Reactive Ion Etching System, Poly-Si RIE)

2

介電材料活性離子蝕刻系統(Dielectric Materials Reactive Ion Etching System, RIE 200L)  

3

高密度活性離子蝕刻系統(High Density Plasma Reactive Ion Etching System, HDP-RIE)

4

多腔體電漿蝕刻系統(Multi-Chamber Plasma Etching System, P5000E)

5 矽深蝕刻系統(Si Deep-RIE)

蒸鍍系統(Vacuum Deposition Systems)

1

熱蒸鍍系統

(1).熱阻絲蒸鍍系統(Thermal Evaporation Coater)

(2).雙電子槍蒸鍍系統 A(Dual E-Gun Evaporation System A)

(3).雙電子槍蒸鍍系統 B(Dual E-Gun Evaporation System B)

2

真空濺鍍系統

(1).真空濺鍍系統 A(Sputtering System A)

(2).真空濺鍍系統 B(Sputtering System B)

3

電子槍蒸鍍系統(E-Beam Evaporator System) (鍍金,現金付費。電子系設備)

分析系統(Analysis Systems)

1

聚焦離子束與電子束顯微系統(Dual beam [focused ion beam & electron beam] System)  FIB

2 冷場發射掃描式電子顯微鏡暨能量散佈分析儀器(SEM SU-8010)(Cold Field Emission Scanning Electron Microscope (Hitachi SU8010) & Energy Dispersive Spectrometer)

3

高解析度場發射掃描電子顯微鏡暨能量散佈分析儀(SEM S-4700I)(High-Resolution Cold Field Emission Scanning Electron Microscope & Energy Dispersive Spectrometer, SEM, EDS)

4 全光譜反射式膜厚量測儀(Reflectometer)

5

展阻量測系統(Spreading Resistance Probe System)

6

四點探針(4-point Probe)

7

橢圓測試儀(Ellipsometer)