NFC國立交通大學奈米中心儀器設備

奈米中心首頁 服務事項 人員簡介 儀器設備 相關文件下載 資源收集

     濕  式  工  作  台

       

              update:2017/05/16

中文名稱

濕式工作台

英文名稱

Wet Bench

儀器廠牌型號

佳佑儀器

購置年限

2014年11月06日

放置地點

固態電子系統大樓 1樓 141實驗室 (TEL:55616)  機台狀況& 平均等待交件時間

功能

晶片(矽或III-V)之RCA清洗(含每個清洗步驟,如煮酸、蝕刻、沖水等項)

重要規格

1.有機清洗1台

2.無機清洗3台

3.晶片旋乾機(4")1台

4.注水鵝頸龍頭、DI水槍、氮氣槍、煮酸加熱板

開放等級

開放人數

機台開放等級/開放人數

聯絡人

1.儀器設備管理人員賴玟  先生 (TEL:03-5712121-55606、55616)

2.儀器管理委員崔秉鉞 教授 (TEL:03-5712121-31570) 

 

儀器操作預約

科技部貴重儀器資訊管理系統預約[Enter]

委託代工

申請表格

使用申請表

操作規範與

考核記錄表

操作規範

考核記錄表

自行操作

申請方式

白天權限申請流程說明 (使用權限為星期一至五8:00~17:00)

24小時申請流程說明 (需有白天權限才可申請)

注意事項 (務必詳讀,以免損失自身權益)

收費標準

依據溼式工作台使用收費管理辦法所規定,非本校學生使用溼式工作台,需填寫使用記錄表並收取500元/次費用

下表收費標準於99/1/1開始實施

  學校單位 研究單位 營利事業單位
RCA Cleaning 3"& 4"(1次) 1800 1800 2000
Initial H2SO4 3"& 4"(1次) 700 700 800
Etching poly   500 500 500
Etching Al   500 500 500
BOE Etching   300 300 300
HF Dip & Rinse   100 100 100
ACE

3"(600c.c)&

4"(1200c.c)

500

500

600