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                B

 

                                                  update:2017/09/13

中文名稱

真空濺鍍系統 B

英文名稱

Sputtering System B

儀器廠牌型號

高敦科技股份有限公司

購置年限

20094

功能

薄膜濺鍍

放置地點

固態電子系統大樓 3 樓實驗室  (TEL55608)  機台狀況& 平均等待交件時間

重要規格

1.人機界面

2.36吋濺鍍陰極

3.可放6WAFER(6or4吋皆可,可自行分配,共6)

4.POWER: DC:2500W*2台與RF:1000W*1

5.氣體:MFC for ArN2O2

6.抽氣系統:RP + Cryo Pump

7.可鍍多層膜

8.基板載台轉速0~30rpm,可調控

9.可升溫至300

開放等級

開放人數

機台開放等級/開放人數

開放使用時間

[enter]

聯絡人

1.儀器設備管理人員詹佳期  先生 (TEL:03-5712121-55622, 55608)

2.儀器管理委員鄭裕庭  教授 (TEL03-5712121-54169)

儀器操作預約

科技部貴重儀器資訊管理系統預約[Enter]

委託代工

申請表格

使用申請表

操作規範與

考核記錄表

使用管理辦法

操作規範    /     (English)操作規範

考核記錄表   /    (English)考核記錄表

自行操作

申請方式

白天權限申請流程說明 (使用權限為星期一至五8:00~17:00)

24小時申請流程說明 (需有白天權限才可申請)

注意事項 (務必詳讀,以免損失自身權益)

收費標準

(貴儀核可項目,有貴儀帳號者請上網預約,無貴儀帳號者請現金付費)

此收費標準於104/1/1開始實施

 

學校單位

研究單位

營利事業單位

代工費 (現金) (自行操作不用繳此費用)

900

900

900

開機費(元)

 6600

 7700

 9900

**可擺4吋或6吋晶片共6**

材料名稱

收費

Ti

1320/KA

Ni

2750/KA

Ta

5500/KA

Hf

9350/KA

申訴電話及
信箱
徐忠璇小姐  TEL:03-5712121轉31534、31248,03-5131534,

賴卓君小姐  TEL:03-5712121轉31775,03-5731775,

中心專線電話: TEL:03-6116690