NFC國立交通大學奈米中心儀器設備

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 http://www.nfc.nctu.edu.tw/mechine_new/mechine/HDP-RIE.htm

    矽 深 蝕 刻 系 統

       

               update:2017/11/10

中文名稱

矽深蝕刻系統

英文名稱

Si Deep-RIE

儀器廠牌型號

Oxford Estrelas 100

購置年限

201612

功能

乾式蝕刻,以矽深蝕刻為主(Bosch Process)

放置地點

固態電子系統大 1116實驗室  (TEL55666 機台狀況& 平均等待交件時間

重要規格

使用氣體包含C4F8SF6CHF3CF4ArO2,以He gas系統冷卻,4" wafer為主。

開放等級

開放人數

機台開放等級/開放人數

開放使用時間

[enter]

取樣應注意事項

1.請詳細說明基底晶片材質,其上含何種物質(如SiO2、光阻等)以及是否要清洗晶片?

2.蝕刻若無特別要求,一律按中心標準製程為之。

聯絡人

1.儀器設備管理人員胡進章 先生 (TEL03-5712121-55607, 55666)

2.儀器設備管理人員陳明麗 小姐 (TEL03-5712121-55660, 55666)

3.儀器 管理委員陳冠能 教授 (TEL03-5712121-31558)

儀器操作預約

科技部貴重儀器資訊管理系統預約[Enter]

委託代工

 申請表格

使用申請表

操作規範與

考核記錄表

操作規範

考核記錄表

自行操作

申請方式

白天權限申請流程說明 (使用權限為星期一至五8:00~17:00)

24小時申請流程說明 (需有白天權限才可申請)

注意事項 (務必詳讀,以免損失自身權益)

收費標準

(貴儀核可項目,有貴儀帳號者請上網預約,無貴儀帳號者請現金付費)

收費方式:

自行操作:收取開機費+製作費

委託操作:收取開機費+製作費+代工費

此收費標準於106/1/1開始實施

 

學校單位

研究單位

營利事業單位

代工費

900/2小時

900/2小時

900/2小時

開機費(元/次)

3500元/次

3500元/次

4200元/次

製作費(元/小時)

3500元/小時

3500元/小時

4200元/小時