NFC國立交通大學奈米中心儀器設備

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    電 漿 輔 助 化 學 氣 相積 系 統

  

      update:2017/08/01

中文名稱 電漿輔助化學氣相積系統 英文名稱

Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition(PECVD)

儀器廠牌型號

Samco

購置年限

1998年7月

放置地點

固態電子系統大樓 1樓 116實驗室 (TEL:55666 機台狀況& 平均等待交件時間

重要規格

1.可使用晶圓尺寸 : 破片至4吋

2.單腔體 : Chamber溫度300°C

3.使用的氣體包括:N2ONH3CF4SiH4+ArN2等,可提供低溫之SiO2Si3N4等薄膜沈積

服務項目

成長SiO2Si3N4等薄膜

開放等級

開放人數

機台開放等級/開放人數

開放使用時間

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聯絡人

1.儀器設備管理人員賴玟  先生  (TEL:03-5712121-55606、55616)

2.儀器管理委員林鴻志 教授 (TEL:03-5712121-54193)

儀器操作預約

科技部貴重儀器資訊管理系統預約[Enter]

委託代工

申請表格

使用申請表

操作規範與

考核記錄表

操作規範

考核記錄表

自行操作

申請方式

白天權限申請流程說明 (使用權限為星期一至五8:00~17:00)

24小時申請流程說明 (需有白天權限才可申請)

注意事項 (務必詳讀,以免損失自身權益)

收費標準

(貴儀核可項目,有貴儀帳號者請上網預約,無貴儀帳號者請現金付費)

收費方式:

自行操作:收取開機費+製作費

委託操作:收取開機費+製作費+代工費

此收費標準於104/1/1開始實施

  學校單位 研究單位 營利事業單位

代工費 (元/次)

900 900 900

開機費 (元/小時)

2070

2300

2500

製作費 (元/小時)

沈積SiO2,Si3N4

2070

2300

2500

申訴電話及
信箱
徐忠璇小姐  TEL:03-5712121轉31534、31248,03-5131534,

賴卓君小姐  TEL:03-5712121轉31775,03-5731775,

中心專線電話: TEL:03-6116690