NFC國立交通大學奈米中心儀器設備

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    多  腔  體  電  漿  蝕  刻  系  統

       

               update:2017/07/05

中文名稱

多腔體電漿蝕刻系統

英文名稱

Multi-chamber Plasma Etching System(P5000E)

儀器廠牌型號

Applied Materials / Precision 5000

購置年限

1990年製

功能

蝕刻二氧化矽、氮化矽、複晶矽

放置地點

固態電子系統大樓1R127實驗室  (TEL:**7795 機台狀況& 平均等待交件時間

重要規格

1.晶圓尺寸:4

2.使用氣體包含Cl2HBrCF4CHF3O2ArHeN2

開放等級

開放人數

機台開放等級/開放人數

取樣應注意事項

1.材料限制:

(1)限矽基板。

(2)試片上不得有摻雜金屬元素或鍍有金屬薄膜。

(3)試片不得經過後段製程機台。

2.請詳細說明基板晶片材質,其上含何種物質(Poly-SiSiO2Si3N4、光阻等),以及是否要清洗晶片。

3.蝕刻若無特別要求,一律按中心標準製程為之。

聯絡人

1.儀器設備管理人員胡進章 先生 (TEL:03-5712121-55607, 55666)

2.儀器設備管理人員陳明麗 小姐 (TEL:03-5712121-55660, 55666)

3.儀器管理委員崔秉鉞 教授 (TEL:03-5712121-31570)

儀器操作預約

科技部貴重儀器資訊管理系統預約[Enter]

委託代工

申請表格

使用申請表

操作規範與

考核記錄表

操作規範

考核記錄表

自行操作

申請方式

白天權限申請流程說明 (使用權限為星期一至五8:00~17:00)

24小時申請流程說明 (需有白天權限才可申請)

注意事項 (務必詳讀,以免損失自身權益)

收費標準

(有貴儀帳號者請上網預約,無貴儀帳號者請現金付費)

收費方式:

自行操作:收取製作

委託操作:收取製作+代工費

此收費標準於104/4/1開始實施

  學校單位 研究單位 營利事業單位

代工費 (元/2小時)

900 900 900

製作費 (元/小時)

3500

3500

4000

申訴電話及信箱 徐忠璇小姐  TEL:03-5712121轉31534、31248,03-5131534,

賴卓君小姐  TEL:03-5712121轉31775,03-5731775,

中心專線電話: TEL:03-6116690