NFC國立交通大學奈米中心儀器設備

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    氧  化  擴  散  系  統 A

  

     update:2017/07/04

中文名稱 氧化擴散系統 A 英文名稱 Oxidation & Diffusion furnaces

儀器廠牌型號

交通大學半導體中心自行組裝

高溫爐體加熱腔為LINDBER出品No:55667

購置年限

1992年6月

放置地點

固態電子系統大樓 1樓 121實驗室 (TEL:55610 機台狀況& 平均等待交件時間

功能

1.磷的預置(POCl3 predeposition)

重要規格

1.加熱最高溫度1100°C

2.加熱區長度36",爐管(chamber)口徑6"

3.恆溫區30cm

4.0~1100°C加熱時間2小時

開放等級

開放人數

機台開放等級/開放人數

開放使用時間 [enter]
聯絡人

1.儀器設備管理人員林聖欽  先生 (TEL:03-5712121-55668、55610)

2.儀器管理委員劉柏村  (TEL:03-5712121-52994)

儀器操作預約

科技部貴重儀器資訊管理系統預約[Enter]

委託代工

申請表格

使用申請表

操作規範與

考核記錄表

操作規範

考核記錄表

自行操作

申請方式

需已擁有Wet Bench使用權限才可申請氧化擴散系統

白天權限申請流程說明 (使用權限為星期一至五8:00~17:00)

24小時申請流程說明 (需有白天權限才可申請)

注意事項 (務必詳讀,以免損失自身權益)

管理及使用辦法

1.爐管預約使用以四個小時為一個區段,可適用的爐管為Wet Oxidation、P+ Annealing 、N+

    Annealing、Dry Oxidation and POCl3 doping等爐管。

2.Al Sintering爐管使用以一個小時為一個區段。

3.每個爐管其預約製程使用時間最多三個區段(三個區段),同一爐管預約使用在一週內製程使用

   時間最多兩(含兩次)

4.時間之製程,如annealing,使用爐管時間超過12小時以上,開放週三及週六兩天進行長時間製

   程之實驗,其餘時間不得做長時間之製程。二天~三天時間者,請利用週五~週日。

5.預約方式:每週一起可預約當週及下週時段。

6.預約取消突發狀況,導致無法於預約時段內操作該項儀器設備者,應以預約三小時之前取消預

    約登記,預約未做且未取消者按原來時段計算收費,其空出時段得由管理者(技術人員)開放出

    來給其他使用者操作使用之,而原預約使用者須接受處罰,其罰則另定之。

7.預約登記使用超過30分鐘未到者,視同預約未取,其時段得由其他使用者使用之。

8.實驗做完應確實填寫使用記錄簿。

收費標準

*本中心規定最高溫度為1100oC,3"及4"晶片,一次最多12片

*不足一小時以一小時計算

*備註: 進入爐管之wafer,須先 Clean ,Clean之費用詳見 Wet_Bench收費標準

收費方式:

自行操作:收取開機費+製作費

委託操作:收取開機費+製作費+代工費

此收費標準於104/1/1開始實施

  學校單位 研究單位 營利事業單位
代工費 900元/次 900元/次 900元/次
開機費+製作費 1,500元/時 1,900元/時 2,000元/時
申訴電話及信箱 徐忠璇小姐  TEL:03-5712121轉31534、31248,03-5131534,

賴卓君小姐  TEL:03-5712121轉31775,03-5731775,

中心專線電話: TEL:03-6116690