NFC國立交通大學奈米中心儀器設備

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    光  罩  對  準  曝  光  機

  

 update:2017/10/18

中文名稱

光罩對準曝光機

英文名稱

Mask Aligner

儀器廠牌型號

德國Karl-Suss MJB-3

購置年限

甲台 : 1988年3月    

乙台 : 1991年1月

放置地點

固態電子系統大樓 1樓120實驗室   (TEL:55609)  機台狀況& 平均等待交件時間

重要規格

1.MASK Dimension:5"x5"/4"x4"

2.Wafer size: ~4"

3.Exposure size: 3"

4.Chuck: W 3"

5.High Lamp 350W

6.Microscope Type: M 400 BF

7.Double Vacuum pump

8.Exposure Power Supply:  CIC 500

9.Exposure option:Option UV 300

10.汞燈光源:350nm~450nm

服務項目

各種元件之對準曝光

開放等級

開放人數

機台開放等級/開放人數 開放使
用時間
[enter]
聯絡人

1.儀器設備管理人員趙建允 先生   (TEL:03-5712121-5567055667)

2.儀器管理委員侯拓宏 教授 (TEL:03-5712121-54261)

儀器操作預約

科技部貴重儀器資訊管理系統預約[Enter]

委託代工

申請表格

使用申請表

操作規範與

考核紀錄表

操作規範

考核記錄表

自行操作

申請方式

申請此機台需同時加考光阻塗佈機真空烤箱光學顯微鏡

白天權限申請流程說明 (使用權限為星期一至五8:00~17:00)

24小時申請流程說明 (需有白天權限才可申請)

注意事項 (務必詳讀,以免損失自身權益)

管理規則及使用辦法

1.預約使用以一個小時為一時段。

2.具該項儀器設備使用者其製程預約時間每日最多一個時段,不得重複預約。

3.預約取消:因突發狀況,導致無法於預約時段內操作該項儀器設備者,應以預約24小時之前取消

   預約登記,未取消者按原來時段計算收費,原時段得由管理者(技術人員)開放出來給其他使用

   者操作使用之,而原預約使用者須接受處罰,其罰則另定之。

4.預約登記使用未準時到者,視同預約未取,其時段得由其他使用者使用之。

5.委託製作者,請先與技術人員聯絡。

收費標準

(貴儀核可項目,有貴儀帳號者請上網預約,無貴儀帳號者請現金付費)

*只上光阻:每片500元

此收費標準於104/1/1開始實施

  學校單位 研究單位 營利事業單位
代工費(不須對第二道mask) 900元(3片以內) 900元(3片以內) 900元(3片以內)
代工費(須對第二道mask) 1400元(3片以內) 1400元(3片以內) 1400元(3片以內)

費用(片)

1200

1200 1400

含晶片coating光阻、光阻去除、顯影、定影、HMDS coating、光罩對準、晶片紫外光曝光(不含Wafer及Mask)

申訴電話及信箱 徐忠璇小姐  TEL:03-5712121轉31534、31248,03-5131534,

賴卓君小姐  TEL:03-5712121轉31775,03-5731775,

中心專線電話: TEL:03-6116690