NFC國立交通大學奈米中心儀器設備

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    紅 外 線 光 罩 對 準 曝 光 機

       

               update:2017/05/16

中文名稱 紅外線光罩對準曝光機 英文名稱

Mask Exposure IR Aligner (IR Aligner)

儀器廠牌型號

德國Karl-Suss MA-4

購置年限

1996年 5月

放置地點

固態電子系統大樓 1樓120實驗室  (TEL:55609 機台狀況& 平均等待交件時間

重要規格

1.Wave Length 320nm

2.Exposure Source 350W Hg Lamp

3.Wafer size 3"~4"

4.Mask Holder size ~5"

服務項目

1.使用紅外線對準,晶片要雙面拋光

2.限4"以下之晶片

3.光罩材質,玻璃或石英均可

系統開放等級

B級 (附註1)

聯絡人

1.儀器設備管理人員黃國華 先生 (TEL:03-5712121-55605、55667)

2.儀器管理委員侯拓宏 教授 (TEL:03-5712121-54261)

儀器操作注意事項

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申請表格 [download]
收費標準

(貴儀無經費補助,請現金付費)

此收費標準於99/1/1開始實施

*只上光阻:每片500元

*委託代工費:第一道Mask,每5片為一單位 500元,以此類推

                          第二道Mask,每5片為一單位 1000元,以此類推

  學校單位 研究單位 營利事業單位

費用(片)

1000元/片

1000元/片 1400元/片

規格 : Wafer 4吋,Mask 5吋晶片, coating光祖、光阻去除、顯影、定影、HMDS coating、光罩對準 、晶片紫外曝光(不含Wafer及Mask)

附註1:

A級:開放給需要使用之學生,經訓練考核後可自行操作。

B級:每位教授指派一位學生申請訓練,該教授之其他學生需由接受訓練的學生代為

         操作,若有教授使用該儀器之學生過多者,可向儀器負責人申請增加接受訓練

         學生人數。

C級:由儀器負責人選定教授推薦之學生若干人接受訓練,經考核後可自行操作儀器

         並得負責委託服務工作。

D級:由本實驗室之技術人員接受委託服務,不開放使用。