NFC國立交通大學奈米中心儀器設備

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    原 子 層 化 學 氣 相積 系 統

  

      update:2017/08/31

中文名稱

原子層化學氣相沉積系統 英文名稱

Atomic Layer Chemical Vapor Deposition System (ALD)

儀器廠牌型號

Cambridge NanoTech Fiji-202 DCS

購置年限

2009

放置地點

固態電子系統大樓 1樓 129實驗室 (TEL:55616 機台狀況& 平均等待交件時間

重要規格

1.可使用晶圓尺寸:破片至8吋。

2.雙腔體:Chamber A-前段介電層薄膜沉積,Chamber B-後段介電層和金屬薄

   膜沉積。

3.可進行熱沉積(thermal deposition)及電漿輔助沉積(plasma-enhanced deposition)

4.使用氣體:ArN2O2NH3H2CF4

服務項目

沉積Al2O3HfO2TiNTiO2薄膜。

開放等級

開放人數

機台開放等級/開放人數

開放使用時間 [enter]

聯絡人

1.儀器設備管理人員倪月珍  小姐 (TEL:03-5712121-55669, 55616)

2.儀器管理委員李佩雯  教授(TEL:03-5712121-54210 or 55601)

儀器操作預約

科技部貴重儀器資訊管理系統預約[Enter]

委託代工

申請表格

使用申請表

操作規範與

考核記錄表

操作規範

考核記錄表

自行操作

申請方式

白天權限申請流程說明 (使用權限為星期一至五8:00~17:00)

24小時申請流程說明 (需有白天權限才可申請)

注意事項 (務必詳讀,以免損失自身權益)

注意事項

1.使用Chamber A之試片不得含有金屬薄膜或經過後段製程,並且沉積前須先進

    RCA clean

2.請詳細說明基板晶片材質及其上含何種物質。

3.Chamber A可進基板材質:SiGe

   Chamber B可進基板材質:SiGeSapphireIII-V、無鹼玻璃。

4.每件委託代工申請單以3run6個小時製程時間為限。

收費標準

(貴儀核可項目,有貴儀帳號者請上網預約,無貴儀帳號者請現金付費)

*不足一小時以一小時計算

*備註: Clean之費用詳見 Wet_Bench收費標準。

收費方式:

自行操作:收取製作+材料費

委託操作:收取製作+材料費+代工費

  學校單位 研究單位 營利事業單位

代工費(元/

900 900 900

製作費(元/小時)

3000

3500

5000

材料費(元/cycle)

Al: 35/cycle         Hf: 45/cycle

Ti: 45/cycle          Zr: 45/cycle

申訴電話及信箱

徐忠璇小姐  TEL:03-5712121轉31534、31248,03-5131534,
賴卓君小姐  TEL:03-5712121轉31775,03-5731775,
中心專線電話: TEL:03-6116690