奈米中心公告

 

公告日期:10108月13日

主旨:製程冷卻水、1樓製程排氣系統、SiH4氣體停供公告。    

 

說明:

一、製程冷卻水停機保養停止供應PCW

影響範圍:1-2樓各實驗室有使用PCW之設備。

時間:911日於08:30停機,16:30復機供應PCW

 

二、1樓製程排氣系統停機切換保養。

影響範圍:1樓各實驗室有使用Scrubber之設備。

時間:911日於08:30停機,16:30復機供應排氣。

 

三、1SiH4氣體廠務盤面修改。

影響範圍:1樓各實驗室有使用SiH4氣體之設備。

時間:911日於08:30停機,91216:30復機供應。

奈米中心 廠務組