奈米中心公告   

公告日期:100915

主旨:開放等級為A等級之儀器設備自行操作申請流程更新公告。

說明:

一、  凡開放等級為A等級之儀器設備,為簡化其申請流程,自即日起針對不是初送申請表者(已有奈米中心識別證者),原先需填寫之乙表更改為『儀器操作訓練申請表』,且不需經儀器管理委員簽核,由奈米中心承辦人簽核後,始可開始訓練。

二、  初次送申請表者(無奈米中心識別證者),除了由奈米中心承辦人簽核外,仍需待中心主管資格審核通過後,始可開始訓練。

三、  目前開放等級為A級之設備如下表所示:

項次 設備中文名稱 設備英文名稱

1~4

黃光室設備考核包含:

光罩對準曝光機

光阻塗佈機

真空烤箱

光學顯微鏡

Lithography include:

Mask Aligner

Photo Resist Spinner

Vacuum Oven

Optical Microscope

5

濕式工作台

Wet Bench

6

氧化擴散系統(爐管)

Oxidation & Diffusion Furnaces

7 低壓化學氣相沉積系統 Low Pressure Chemical Vapor Deposition System
8 雙面光罩對準曝光機 Double Side Mask Aligner

9

光學步進曝光機

I-line Stepper

10

紫外光臭氧去光阻機

UV Ozone Dry Stripper

11

熱阻絲蒸鍍系統

Thermal Evaporation Coater

12

雙電子槍蒸鍍系統A

Dual E-Gun Evaporation System(A)

13

雙電子槍蒸鍍系統B

Dual E-Gun (B)

14

真空濺鍍系統A

Sputtering System A

15

真空濺鍍系統B

Sputtering System B

16

橢圓測試儀

Ellipsomete

17

高解析度場發射掃描電子顯微鏡暨能量散佈分析儀 High-Resolution Cold Field Emission Scanning Electron Microscope & Energy Dispersive Spectrometer, SEM, EDS

18

展阻量測系統 Spreading Resistance Probe System

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