NFC國立交通大學奈米中心儀器訓練辦法

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各儀器設備開放等級人數

(Open Level, Open people)

A級:開放給需要使用之學生,經訓練考核後可自行操作。

Level A:General user. The general users can operate the equipment themselves after both training and qualifying.

B級:每位教授指派一位學生申請訓練,該教授之其他學生需由接受訓練的學生代為操作,若有教授使用該儀器之學生過多者,可向儀器負責人申請增加接受訓練學生人數。

Level B:Advanced user. Each professor can assign one student to use the equipment for their group. If necessary, more advent users can be assigned with special application by the

           professor.

C級:由儀器負責人選定教授推薦之學生若干人接受訓練,經考核後可自行操作儀器並得負責委託服務工作。

Level C:Specific user. Some recommended students often training and qualifying can operate the equipment to work and help service for other researchers.

D級:由本實驗室之技術人員接受委託服務,不開放使用。

Level D:Technician. Only the technician can run the equipment for service.

        

         A級儀器設備, 一個實驗室申請自行操作之人數限制 (奈米中心保有隨時變更人數限制的權利):

項次

開放等級

Open Level

設備中文名稱

Machine (Chinese language)

設備英文名稱

Machine (English language)

校內人數限制

Open people

(intramural)

校外人數限制

Open people

(outside the school)

1

A

濕式工作台

Wet Bench

不限 (without limit)

不限 (without limit)

2

A

光罩對準曝光機

(用此機台需同時加考光阻塗佈機、真空烤箱、光學顯微鏡)

Mask Aligner

(Include:Photo Resist Spinner, Vacuum Oven, Optical Microscope)

不限 (without limit)

不限 (without limit)

3

A

雙面光罩對準曝光機

(用此機台需同時加考光阻塗佈機、真空烤箱、光學顯微鏡)

Double Side Mask Aligner

(Include:Photo Resist Spinner, Vacuum Oven, Optical Microscope)

不限 (without limit)

3

4

A

氧化擴散系統A

Oxidation & Diffusion Furnaces (A)

不限 (without limit)

3

5

A

氧化擴散系統B

Oxidation & Diffusion Furnaces (B)

不限 (without limit)

3

6

A

低壓化學氣相沉積系統

Low Pressure Chemical Vapor Deposition System

不限 (without limit)

3

7

A

光學步進曝光機

I-line Stepper

不限 (without limit)

3

8

A

紫外光臭氧去光阻機

UV Ozone Dry Stripper

不限 (without limit)

3

9

A

熱阻絲蒸鍍系統

Thermal Evaporation Coater

不限 (without limit)

3

10

A

雙電子槍蒸鍍系統A

Dual E-Gun Evaporation System(A)

不限 (without limit)

3

11

A

雙電子槍蒸鍍系統B

Dual E-Gun (B)

不限 (without limit)

3

12

A

真空濺鍍系統A

Sputtering System (A)

不限 (without limit)

3

13

A

真空濺鍍系統B

Sputtering System (B)

不限 (without limit)

3

14

A

橢圓測試儀

Ellipsometer

不限 (without limit)

3

15

A

電漿輔助化學氣相沉積系統

Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD

不限 (without limit)

3

16

A

複晶矽活性離子蝕刻系統

Poly-Si Reactive Ion Etching System, Poly-Si RIE

不限 (without limit)

3

17

A

高密度活性離子蝕刻系統

High Density Plasma Reactive Ion Etching System, HDP-RIE

(without limit)

3

18

A

多腔體電漿蝕刻系統

Multi-Chamber Plasma Etching System, P5000E

不限 (without limit)

3

19

A

冷場發射掃描式電子顯微鏡暨能量散佈分析儀器(SEM SU-8010)

Cold Field Emission Scanning Electron Microscope (Hitachi SU8010) & Energy Dispersive Spectrometer

不限 (without limit)

3

20

A

原子層化學氣相沉積系統

Atomic Layer Chemical Vapor Deposition System, ALD

不限 (without limit)

3

21 A 全光譜反射式膜厚量測儀 Reflectometer 不限 (without limit) 3

22

A

介電薄膜活性離子蝕刻系統

Dielectric Materials Reactive Ion Etching System, RIE 200L

不限 (without limit)

3

23

A

矽深蝕刻系統

Si Deep-RIE

不限 (without limit)

3

24

A

高解析度場發射掃描電子顯微鏡暨能量散佈分析儀(SEM S-4700I)

High-Resolution Cold Field Emission Scanning Electron Microscope & Energy Dispersive Spectrometer, SEM, EDS

不限 (without limit)

不開放 (nonopen)

 

         BCD級儀器設備,  一個實驗室申請自行操作 之人數限制 (奈米中心保有隨時變更人數限制的權利):

項次

開放等級

設備中文名稱

設備英文名稱

校內人數限制

校外人數限制

1

C

聚焦離子束與電子束顯微系統

Dual beam [focused ion beam & electron beam] System, FIB

2

2

2

C

展阻量測系統

Spreading Resistance Probe System

不限 (without limit)

3人

3

C

光罩複製機

Mask Aligner

不限 (without limit)

不開放 (nonopen)

4

D

雷射光罩製作系統 Ι

Laser Pattern Generator

不開放 (nonopen) 不開放 (nonopen)

5

D

雷射光罩製作系統 (DWL-200)

Laser Pattern Generator, DWL-200

不開放 (nonopen)

不開放 (nonopen)