一、介電薄膜活性離子蝕刻系統

        (Die-electric Material SAMCO-RIE 200L)

二、高密度活性離子蝕刻系統

        (High Density Plasma Reactive Ion Etching System, HDP-RIE)

三、複晶矽活性離子蝕刻系統

        (Poly-Si Reactive Ion Etching System, Poly-Si RIE)

四、電漿輔助化學氣相沉積系統

        (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD)

多腔體電漿蝕刻系統

        (Multi-chamber Plasma Etching System, P5000E)

雙電子槍蒸鍍系統

        (Dual E-Gun Evaporation System)

真空濺鍍系統

        (Sputtering System)

電子槍蒸鍍系統

        (E/B Gun Coater)

低壓化學氣相沉積系統

       (Low Pressure Chemical Vapor Deposition, LPCVD)

聚焦離子束與電子束顯微系統

         Dual beam (focused ion beam & electron beam) System (FIB/SEM)

一、原子層沉積系統

         (Atomic Layer Deposition system,簡稱ALD)

十二、黃光室

 

 

一、介電薄膜活性離子蝕刻系統

           ( Die-electric Material SAMCO-RIE 200L)

  

1、Q:能進入SAMCO- RIE系統的基材?

      A: Si Wafer ,不含任何其他金屬。

 

2、Q:使用之基材大小?

      A:4吋or 6吋。

 

3、Q:SAMCO- RIE提供哪些材料的蝕刻服務?

      A:本系統僅提供SiO2 Si3N4的蝕刻服務。

 

4、Q:如何申請SAMCO- RIE 200L委託代工?

      A:請先上貴儀網站預約後取得預約編號,再至本中心網頁。下載儀器委托代工申請表將填好之申請

             表及材料送至本中心(本校固態電子大樓2F),本中心於收件後排程代做。

 

5、Q:SAMCO- RIE 200L委託代工之費用有哪些?

      A:費用區分為開機費、製作費以及代工費。開機費及製作費申請國科會計畫補助之使用者由貴儀扣

              帳,其他使用者請付現金,代工費部份則以現金收費,費用表請查閱

 

二、高密度活性離子蝕刻系統

           (High Density Plasma Reactive Ion Etching System, HDP-RIE)

 

1Q能進入HDP-RIE系統的基材?

      ASi Wafer ,不含任何負表列之金屬

 

2Q:使用之基材大小?

      A4吋。

 

3QHDP-RIE提供哪些材料的蝕刻服務?  

      A以蝕刻Al材料為主。

 

4Q如何申請HDP-RIE委託代工?

      A請先上貴儀網站預約後取得預約編號,再至本中心網頁下載儀器委托代工申請表,將填好之申請

             表及材料送至本中心(本校固態電子大樓2F),本中心於收件後排程代做。

 

5QHDP-RIE委託代工之費用有哪些?

      A費用區分為開機費、製作費以及代工費。開機費及製作費申請國科會計畫補助之使用者由貴儀扣

              帳,其他使用者請付現金,代工費部份則以現金收費,費用表請查閱

 

三、複晶矽活性離子蝕刻系統

           (Poly-Si Reactive Ion Etching System, Poly-Si RIE)

 

1Q:能進入Poly-RIE系統的基材?

      ASi Wafer ,不含任何其他金屬。

 

2Q:使用之基材大小?

      A4or 6吋。

 

3QPoly- RIE提供哪些材料的蝕刻服務?

      A:本系統僅提供Poly-Si的蝕刻服務

 

4Q:如何申請Poly- RIE委託代工?

      A:請先上貴儀網站預約後取得預約編號,再至本中心網頁。下載儀器委托代工申請表將填好之申請

             表及材料送至本中心(本校固態電子大樓2F),本中心於收件後排程代做。

 

5QPoly- RIE委託代工之費用有哪些?

      A:費用區分為開機費、材料費以及代工費。 開機費及製作費申請國科會計畫補助之使用者由貴

      儀扣帳,其他使用者請付現金,代工費部份則以現金收費,費用表請查閱 

 

四、多腔體電漿蝕刻系統

(Multi-chamber Plasma Etching System, P5000E)

 

1Q:能進入P5000E系統的基材?

      ASi Wafer ,不含任何其他金屬。

 

2Q:使用之基材大小?

      A4吋。

 

3QP5000E提供哪些材料的蝕刻服務?

      A:本系統提供單晶矽複晶矽、二氧化矽、氮化矽的蝕刻服務。

 

4Q:如何申請P5000E委託代工?

      A:請先上貴儀網站預約後取得預約編號,再至本中心網頁下載儀器委托代工申請表將填好之申請

             表及材料送至本中心(本校固態電子大樓2F),本中心於收件後排程代做。

 

5QP5000E委託代工之費用有哪些?

      A:費用區分為製作費以及代工費。製作費申請國科會計畫補助之使用者由貴儀扣帳,其他使用者請

             付現金,代工費部份則以現金收費,費用表請查閱

 

電漿輔助化學氣相沉積系統

           (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD)

 

1Q:能進入PECVD系統的基材?

      ASi Wafer ,不含任何其他金屬,鋁除外。

 

2Q:使用之基材大小?

      A3,4吋及破片。

 

3QPECVD提供哪些材料的沉積服務?

      A本系統提供SiO2Si3N4的沉積服務。

 

4Q:如何申請PECVD委託代工?

      A:請先上貴儀網站預約後取得預約編號,再至本中心網頁。下載儀器委托代工申請表將填好之申請

             表及材料送至本中心(本校固態電子大樓2F),本中心於收件後排程代做。

 

5QPECVD委託代工之費用有哪些?

      A:費用區分為開機費、材料費以及代工費 開機費及材料費申請國科會計畫補助之使用者由貴儀扣

              帳,其他使用者請付 現金,請查閱費用表委託代工部份目前收費現金NT$900/RUN

  

六、雙電子槍蒸鍍系統

           (Dual E-Gun Evaporation System)

 

1Q:雙電子槍蒸鍍機提供哪些材料的蒸鍍服務?

      A:請查閱本中心網頁,(雙電子槍蒸鍍系統--光復校區雙電子槍蒸鍍系統--博愛校區)

 

2Q:雙電子槍蒸鍍機使用之基材大小?

      A4吋一次18片,6吋一次3 + 4吋一次6片。

 

3Q:如何申請雙電子槍蒸鍍機委託代工?

      A:請先上貴儀網站預約後取得預約編號,如何上網預約相關問題請打31775聯繫,再至本中心

          網頁。下載儀器委托代工申請表將填好之申請表及材料送至本中心(本校固態電子大樓2F),本中

             心於收件 後排程代做。

 

4Q:雙電子槍蒸鍍機委託代工之費用有哪些?

      A:費用區分為開機費、材料費以及代工費。 開機費及材料費申請國科會計畫補助之使用者由貴儀扣

              帳,其他使用者請付 現金,請查閱費用表。委託代工部份目前收費現金NT$900/RUN

 

5Q:雙電子槍蒸鍍機委託代工鍍白金(Pt)要注意哪些事項?

      A白金(Pt)厚度每RUN上限50nm ,由本中心提供材料,貴重金屬國科會貴儀不補助,採現金收費。

              自備Pt者,請自行準備全新適用ULVAC 機台用3cc之石墨坩鍋,Pt純度99.99%,至少填 九成滿。

              自備材料者,因操作過程所造成任何之坩鍋及材料的損耗,本中心不予負責。

 

七、真空濺鍍系統

          (Sputtering System)

 

1Q:濺鍍機AB提供哪些材料的濺鍍服務?

      A:請查閱本中心網頁,內有材料清單。

 

2Q:濺鍍機A使用之基材大小?

      A濺鍍機A : 4吋一次6片,6吋一次3片。

              濺鍍機B : 4吋或6吋一次共6片。

 

3Q:如何申請濺鍍機A委託代工?

   A:請先上貴儀網站預約後取得預約編號,如何上網預約相關問題請打31775聯繫,再至本中心網頁。

          下載儀器委托代工申請表將填好之申請表及材料送至本中心(本校固態電子大樓2F),本中心於收件

          後排程代做。

 

4. Q:濺鍍機A委託代工之費用有哪些?

    A:費用區分為開機費、材料費以及代工費。 開機費及材料費申請國科會計畫補助之使用者由貴儀扣

            帳,其他使用者請付 現金,費用表請查閱委託代工部份目前收費現金NT$900/RUN

 

八、電子槍蒸鍍系統

           (E/B Gun Coater)

 

1Q:這部電子槍蒸鍍機除了可以鍍金(Au)以外還可以鍍哪些材料?

      A:基本上沒有限制材料,但非常用之材料需提供材料DesityZ-ratio參數。

 

2Q:用這部電子槍蒸鍍機為何只收現金 ?

      A:因為此部機台並不是貴儀中心所屬的設備,貴儀不補助,故需付現金。

 

3Q:電子槍蒸鍍機如何計費?

      A:本機台一律委託代工,代工費NT$900及開機費NT$5000 這是固定要的,材料費比照奈米中心雙電

              子槍收費。若自備材料者請一併自備坩堝,只收代工費NT$900及開機費NT$5000合計NT$5900

  

九、低壓化學氣相沉積系統

           (Low Pressure Chemical Vapor Deposition, LPCVD)

 

1Q:低壓化學氣相沉積系統需使用何種尺吋晶片?

      A:晶片大小34吋皆可。

 

2Q使用LPCVD時所置入之wafer製程有何限制?

      A不接受鍍過金屬層之wafer進爐管。

 

3Q高溫爐管之限制為何?

      A最高溫度不得超果1100℃,Wet Oxide使用氫氣時,溫度不得低於900℃。

 

十、聚焦離子束與電子束顯微系統

           Dual beam (focused ion beam & electron beam) System (FIB/SEM)

 

1Q聚焦離子束與電子束顯微系統 (FIB/SEM)有何限制性材料?

      A限制性材料詳列如下:

a.磁性材料

b.有機物、高分子、粉末等電子束照射下會分解或釋出氣體材料

c.低熔點的物質

d.合金材料含有磁性材料高於5%

e.E-beam照射下,影像會出現扭曲變形(fuzzy)材料

          若因進入限制性材料或是試片處理不當造成機台損壞或污染,須負賠償責任。賠償費用由原廠評估

          並經管理委員會決議後執行。

 

2Q:如何申請FIB委託服務?

      A:請先於貴儀系統預約時段,機台開放預約時間為每月25日上午八時,預約次月實驗。  實驗時間

          預約後若需取消,請於五天前自行登錄貴儀系統取消,否則仍需扣款。貴儀系統預約限制為:

             每位計畫主持人每月限預約二次。使用者必需詳細說明試片之製作方式,若有可能造成真空腔

             污染,本單位有權拒絕受理。預約者請於實驗三天前於奈米中心網頁下載申請表格,繪圖說明

             樣本觀察部位、各層材料及厚度,並傳送檔案予技術人員審核。

 

3Q:試片尺寸及進行實驗前須注意之事項。

      A試片規格1cm~2.5cm,高度小於0.5cm為較合適的尺寸。若為特殊尺寸,應事先與管理者聯繫確

             認是否適合進行實驗。分析測試時若發現樣品不符合規定,樣品將被退回並照其預約之時段付

             費。實驗時使用者應在場說明需分析之內容。另外,若為半導體、導電性不佳及絕緣體試片需先

             鍍導電膜(金或鉑較佳),現場無提供鍍膜處理。

 

十一、原子層沉積系統

           (Atomic Layer Deposition system,簡稱ALD)

 

1QALD能使用的晶片尺寸?

      A:破片(大小10×10mm以上)8吋晶片均可。

 

2QALD使用之材料限制?

      A:腔體A可進基板材料為SiGe;腔體B可進基板材料為SiGeSapphireIII-V、無鹼玻璃。晶片

             上不可含有AuAgCuFe,且不可沾黏有銅膠或真空膠帶。

 

3QALD提供哪些材料沉積服務?

      AAl2O3HfO2TiNTiO2HfxAlyOz

 

4Q:如何申請ALD委託代工?

      A:請先上貴儀網站預約並取得預約編號再至本中心網頁下載儀器使用申請表,並將填好之申請表

             及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)排程代工。

 

5QALD委託代工如何計費?

      A:費用分為製作費、材料費及代工費。(收費標準)製作費及材料費申請國科會計劃補助之使用者由

             貴儀扣帳,其他使用者請現金付費,委託代工部份收取現金NT$900/每件(3RUN6小時為限)

 

十二、黃光室

 

1Q黃光室Alignermaskwafer尺寸?

      AAligner適用5"x5"  or  4"x4"mask4吋以下之晶片,曝光範圍為3吋。

 

2Q:黃光室提供的化學藥品有那些?

      A正光阻  FH6400L  顯影液  FHD5

              正光阻  AZ6112   顯影液  AZ300

              正光阻  AZ4620   顯影液  AZ300

 

3Q:可自行帶化學藥品進入黃光室嗎?

      A可,但需經過申請。請自行下載表格填寫,附上中文之SDS表,經指導教授簽名及儀器專家審核

             後即可帶入。